机译:Al_(0.18)Ga_(0.82)N / GaN异质结构中二维电子气密度的高温依赖性
State Key Laboratory of Artificial Microstructure and Mesoscopic Physics, School of Physics, Peking University, Beijing 100871, PR, China;
Ⅲ-Ⅴ semiconductor-to-semiconductor contacts; p-n junctions; and heterojunctions; Ⅲ-Ⅴ semiconductors;
机译:Al_(0.18)Ga_(0.82)N / GaN共振隧穿二极管通过分子束外延在自立GaN衬底上生长得到的可重复低温负微分电阻
机译:晶格匹配的In0.18Al0.82N / GaN基异质结构中各种伪晶AlN层插入对二维电子气电子密度的影响
机译:GaN / Al_(0.18)Ga_(0.82)N超晶格中的超快载流子动力学
机译:光子衰变时间研究Al_(0.45)Ga_(1-0.55)N / Al_(0.18)Ga_(1-0.82)N / Al_(0.45)Ga_(1-0.55)N通过MoCVD在蓝宝石底物上生长的双异质结构
机译:费米表面研究和二维ACAR在高临界温度超导钇钡(2)铜(3)氧(7-x)系统中电子-正电子动量密度的温度依赖性。
机译:Si上In0.18Al0.82N / AlN / GaN MIS-HEMT(金属绝缘体半导体高电子迁移率晶体管)的陡峭开关
机译:清晰界面AlGaN / GaN异质结构中二维电子气的室温迁移率高于2200 cm2 / V.s