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机译:基于快速热退火的内部吸杂锗掺杂的直拉硅
doping and impurity implantation in germanium and silicon; kinetics of defect formation and annealing; elemental semiconductors;
机译:掺锗的切克劳斯基硅的内部吸杂:通过基于快速热退火的处理仿真处理
机译:基于快速热退火的掺锗切克劳斯基硅内在吸气
机译:掺锗的切克劳斯基晶体硅晶体的内在吸杂
机译:直拉硅中铜污染的内部吸气剂
机译:铜扩散的直拉硅中近表面位错引起杂质元素的外在吸气。
机译:使用牺牲多孔硅层的多晶硅磷扩散吸杂工艺
机译:用于硅异质结太阳能电池的预制作摩擦处理和氢化处理:使用低寿命商业级P型Czochralski硅的电路> 700 mV开路电压的可能路径
机译:硅中注入诱导空穴吸杂与siO {sub 2}沉淀相关的内部吸杂之间的竞争