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机译:通过光刻技术制造的石墨烯器件中接触电阻的起源
Werkstoffe der Elektrotechnik and CENIDE, Universitaet Duisburg-Essen, 47057 Duisburg, Germany;
Advanced Microelectronic Center Aachen (AMICA), AMO GmbH, 52074 Aachen, Germany,Centre for Advanced Photonics and Electronics, Department of Engineering, University of Cambridge, Cambridge CB3 0FA, UK;
Advanced Microelectronic Center Aachen (AMICA), AMO GmbH, 52074 Aachen, Germany;
Werkstoffe der Elektrotechnik and CENIDE, Universitaet Duisburg-Essen, 47057 Duisburg, Germany;
Werkstoffe der Elektrotechnik and CENIDE, Universitaet Duisburg-Essen, 47057 Duisburg, Germany;
机译:具有镍刻蚀石墨烯触点的低接触电阻石墨烯器件
机译:用于接触纳米精密施主器件的全光学光刻工艺
机译:用于制造石墨烯设备的双笔光刻技术
机译:通过接触传递和掩模嵌入式光刻制造的高频表面声波(SAW)器件
机译:通过软光刻制造的基于介电电泳的微流体装置。
机译:影响湿度对石墨烯接触电阻的影响设备
机译:具有镍蚀刻石墨烯的低接触电阻石墨烯器件 往来