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Interface-controlled layer exchange in metal-induced crystallization of germanium thin films

机译:金属诱导的锗薄膜结晶中的界面控制层交换

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摘要

Low-temperature synthesis of polycrystalline germanium (poly-Ge) thin films is of great interest in thin-film photovoltaic and electronics applications. We demonstrate metal (Al)-induced crystallization to form poly-Ge thin films on both glass and polymer substrates at temperatures as low as 200 °C. An interfacial diffusion control layer, intentionally interposed between the Al and the underlying amorphous Ge (a-Ge) layer, is found to achieve layer exchange while suppressing uncontrolled Ge crystallization within the bilayer samples. Germanium thin films with micron-size grains and (111)-preferred orientation are prepared by controlled Ge nucleation and Ge lateral overgrowth of Al during a-Ge crystallization.
机译:多晶锗(poly-Ge)薄膜的低温合成在薄膜光伏和电子应用中备受关注。我们证明了金属(Al)诱导的结晶,可在低至200 temperaturesC的温度下在玻璃和聚合物基板上形成多Ge薄膜。发现在Al和下面的非晶Ge(a-Ge)层之间有意插入的界面扩散控制层可实现层交换,同时抑制双层样品中不可控的Ge结晶。通过控制a-Ge结晶过程中Al的Ge成核作用和Ge横向过度生长,制备了具有微米级晶粒和(111)择优取向的锗薄膜。

著录项

  • 来源
    《Applied Physics Letters》 |2010年第8期|P.082104-082104-3|共3页
  • 作者单位

    Department of Materials Science and Engineering, Stanford University, Stanford, California 94305, USA;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
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