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Interplay between strain, quantum confinement, and ferromagnetism in strained ferromagnetic semiconductor (In,Fe)As thin films

机译:应变铁磁半导体(In,Fe)As薄膜中的应变,量子约束和铁磁性之间的相互作用

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摘要

We systematically investigated the influence of strain on the electronic structure and ferromagnetism of (In,Fe)As thin films. It is found that while the shift of the critical point energies of compressive-strained (In,Fe)As layers grown on (In1−y,Gay)As (y = 0.05, 0.1) buffer layers can be explained by the hydrostatic deformation effect (HDE) alone, those of tensile-strained (In,Fe)As layers grown on (Ga1−z,Alz)Sb (z = 0, 0.5, 1) buffer layers can be explained by the combination of HDE and the quantum confinement effect (QCE). The Curie temperature TC of the (In,Fe)As layers strongly depends on the strain, and shows a maximum for the (In,Fe)As layer grown on a GaSb buffer layer. The strain dependence of TC can be explained by the s-d exchange mechanism taking into account HDE and QCE.
机译:我们系统地研究了应变对(In,Fe)As薄膜的电子结构和铁磁性的影响。发现在(In1-y,Gay)As(y = 0.05,0.1)缓冲层上生长的压缩应变(In,Fe)As层的临界点能量的位移可以通过静水变形效应来解释仅通过(HDE),在(Ga1-z,Alz)Sb(z = 0,0.5,1)缓冲层上生长的拉伸应变(In,Fe)As层可以通过HDE和量子限制相结合来解释效果(QCE)。 (In,Fe)As层的居里温度TC很大程度上取决于应变,并且显示了在GaSb缓冲层上生长的(In,Fe)As层的最大值。 TC的应变依赖性可以通过考虑HDE和QCE的s-d交换机制来解释。

著录项

  • 来源
    《Applied Physics Letters》 |2014年第14期|1-5|共5页
  • 作者单位

    Department of Electrical Engineering and Information Systems, The University of Tokyo, 7-3-1 Hongo, Bunkyo-ku, Tokyo 113-8656, Japan;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
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