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Very low activation energy for carrier generation of surface doped organic single crystals observed by Hall effects

机译:通过霍尔效应观察到非常低的活化能,可用于表面掺杂有机单晶的载流子生成

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摘要

Very low activation energy for hole generation reaching 5.7 meV to realize the ionization rate of 100% at room temperature by surface doping of molybdenum oxide on rubrene single crystals was observed from the temperature dependence of the hole concentration directly measured by the Hall effect. Hole mobility having band-conductive nature was maintained after surface doping. Very low activation energy can be explained by the overlap of shielded Coulomb potentials. By increasing the concentration of charge transfer states at the interface between the crystal and the dopant, high doping efficiency can be achieved.
机译:从通过霍尔效应直接测量的空穴浓度的温度依赖性,观察到非常低的空穴产生活化能达到5.7meV,从而在室温下通过氧化钼在红re烯单晶上的表面掺杂实现100%的电离率。在表面掺杂之后保持具有带导电性的空穴迁移率。屏蔽库仑电势的重叠可以解释非常低的活化能。通过增加晶体和掺杂剂之间的界面处的电荷转移态的浓度,可以实现高掺杂效率。

著录项

  • 来源
    《Applied Physics Letters》 |2019年第11期|113301.1-113301.4|共4页
  • 作者单位

    Inst Mol Sci 5-1 Higashiyama Okazaki Aichi 4448787 Japan;

    Inst Mol Sci 5-1 Higashiyama Okazaki Aichi 4448787 Japan|BHU Indian Inst Technol RR 6 Varanasi 221005 Uttar Pradesh India;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-18 04:35:06

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