机译:修饰200 MeV Ag离子辐照的MgB_(2)薄膜的临界电流密度
Center for Superconductivity Research, Department of Physics, University of Maryland, College Park, Maryland 20742-4111;
机译:200 MeV Ag〜(+15)离子辐照产生柱状缺陷并提高La-2125型超导薄膜的临界电流密度
机译:200 MeV Au离子辐照MgB_2薄膜的临界电流密度
机译:评述“用3-MeV金离子辐照YBa_2Cu_3O_7薄膜中的临界电流密度与磁场角的衰减” [J.应用物理114,233911(2013)
机译:确定在低磁场下限制MgB_(2-x)C_x超导体中的临界电流密度的因素
机译:通过CVD硼薄膜的异位退火生长的超导二硼化镁薄膜中的临界电流密度的研究。
机译:FeO包覆的MgB2薄膜在高磁场下的临界电流密度的提高
机译:200 meV ag + 15离子辐照产生柱状缺陷并增强 La-2125型超导薄膜的临界电流密度
机译:质子辐照的YBa2Cu3O(7-δ)薄膜中增强的涡旋钉扎和临界电流密度