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Boron alloying in GaN

机译:GaN中的硼合金化

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摘要

Using first-principles calculations in the local density approximation, we studied effects of adding up to 6% boron to zine-blende GaN. We found that the band gap increases monotonically with boron incorporation, in agreement with experiment. A composition-independent band-gap bowing parameter of 4.30 eV was determined, and proved to be large compared to bowing for other mixed cation systems. The formation enthalpy of mixing, ΔH, was determined for B_(x)Ga_(1-x)N, B_(x)Ga_(1-x)As, and GaAs_(1-x)N_(x). A comparison of enthalpies indicates that the production of B_(x)Ga_(1-x)N films with boron concentrations of at least 5% may be possible.
机译:使用局部密度近似中的第一性原理计算,我们研究了向混合锌的GaN中添加多达6%的硼的影响。我们发现,带隙随硼掺入量单调增加,与实验一致。确定了与组分无关的带隙弯曲参数为4.30 eV,与其他混合阳离子体系的弯曲相比,该参数被证明较大。对于B_(x)Ga_(1-x)N,B_(x)Ga_(1-x)As和GaAs_(1-x)N_(x),确定混合的形成焓ΔH。焓的比较表明,可以生产硼浓度至少为5%的B_(x)Ga_(1-x)N薄膜。

著录项

  • 来源
    《Applied Physics Letters》 |2004年第5期|p.705-707|共3页
  • 作者单位

    Department of Physics and Astronomy, Northern Arizona University, P.O. Box 6010, Flagstaff, Arizona 86011-6010;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 应用物理学;
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-18 03:23:09

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