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机译:(001)In_(0.53)Ga_(0.47)As和GaAs上外延ErAs层的界面原子结构
Materials Department, University of California, Santa Barbara, California 93106-5050;
机译:InP / In_(0.53)Ga_(0.47)As界面对In_(0.52)Al_(0.48)As / In_(0.53)Ga_(0.47)As异质结构中自旋轨道相互作用的影响
机译:在硅衬底上的MOCVD生长的InGaAs外延层上制造的低界面陷阱密度Al_2O_3 / In_(0.53)Ga_(0.47)As MOS电容器
机译:原子层沉积在In_(0.53)Ga_(0.47)As(001)-4×2上HfO_2的界面电子结构的同步辐射光发射研究
机译:In_(0.53)Ga_(0.47)As(001)衬底上MO_2(M = Zr,Hf)栅极电介质的三甲基铝原子层沉积
机译:与n-GaAs和n-In(0.53)Ga(0.47)As的欧姆接触:一种热力学方法。
机译:使用原子层沉积在GaAs(001)和(111)上外延单晶Y2O3
机译:InP / In_ {0.53} Ga_ {0.47} As界面对In_ {0.52} Al_ {0.48} As / In_ {0.53} Ga_ {0.47} As异质结构中自旋轨道相互作用的影响
机译:Gaas(001)和alas(001)衬底上si层的外延生长和界面参数