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Dispersion of thermo-optic coefficient in porous silicon layers of different porosities

机译:热光系数在不同孔隙度的多孔硅层中的分散

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摘要

The thermo-optic coefficient (dn/dT) of porous silicon has been measured. The measurements are based on a simple technique. The experimental data, in the wavelength range between 500 and 1100 nm and at different porosities, have been compared with the Bruggeman and Landau-Lifshitz models. The results show good agreement in case of the Bruggeman model for porosities lower than 0.7, while for higher porosities the Landau model is in better agreement. An estimation of dn/dT as a function of the porosity at the fiber optic communication wavelength of 1.55 μm has also been reported.
机译:已经测量了多孔硅的热光系数(dn / dT)。这些测量基于一种简单的技术。实验数据在500到1100 nm的波长范围内和不同的孔隙率下,已经与Bruggeman和Landau-Lifshitz模型进行了比较。结果表明,在Bruggeman模型中,孔隙度低于0.7时,具有良好的一致性,而对于较高孔隙度,Landau模型则具有较好的一致性。在光纤通讯波长为1.55μm的情况下,dn / dT随孔隙率的变化也得到了报道。

著录项

  • 来源
    《Applied Physics Letters》 |2005年第6期|p.061107.1-061107.3|共3页
  • 作者单位

    National Research Council—Institute for Microelectronics and Microsystems, via P. Castellino 111, 80131 Naples, Italy;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 应用物理学;
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-18 03:22:19

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