机译:通过压痕和化学蚀刻对硅进行图案化
机译:使用金属辅助化学蚀刻对多孔硅纳米结构进行图案化并消除氮化硅掩模上的微裂纹
机译:由Femtosecond激光辅助化学蚀刻诱导的硅凸面的微观结构
机译:利用间隔物图案化技术和金属辅助化学蚀刻法制备垂直硅纳米管阵列
机译:用于高级构图应用的选择性“化学下游等离子体刻蚀”氮化硅和氧化硅的研究
机译:通过金属辅助化学蚀刻产生的多孔硅的材料表征,图案化和吸附物诱导的光调制。
机译:从硅工程到多孔硅和硅金属辅助化学刻蚀的纳米线:Ag的大小和作用电子清除率对形貌控制及机理的影响
机译:通过离子注入,硅沉积和选择性硅刻蚀对硅进行3D自由形图案化