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Effect of arsenic species on the formation of (Ga)InAs nanostructures after partial capping and regrowth

机译:砷对部分封盖和再生长后(Ga)InAs纳米结构形成的影响

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摘要

Surface morphologies of self-assembled (Ga)InAs nanostructures grown by partial-capping-and-regrowth technique using gas-source molecular beam epitaxy (GSMBE) and solid-source molecular beam epitaxy (SSMBE) are compared. With SSMBE under an As_4 ambient, as-grown quantum dots (QDs) change to a camel-like nanostructure after being partially overgrown with GaAs. When additional InAs is deposited, quantum-dot molecules are created. In comparison, with GSMBE under As_2 overpressure, as-grown QDs are transformed into quantum rings after partial capping with GaAs and then, after regrowth, become double QDs. At higher regrowth temperature, QD rings are formed.
机译:比较了使用气体源分子束外延(GSMBE)和固体源分子束外延(SSMBE)的部分封盖和再生长技术生长的自组装(Ga)InAs纳米结构的表面形态。在As_4环境下使用SSMBE,生长的量子点(QD)在被GaAs部分过量生长后变为骆驼状的纳米结构。当沉积额外的InAs时,会产生量子点分子。相比之下,在As_2超压下的GSMBE中,生长的量子点在用GaAs进行部分封端后转化为量子环,然后在再生后变成双量子点。在较高的再生温度下,会形成QD环。

著录项

  • 来源
    《Applied Physics Letters》 |2007年第18期|p.183112.1-183112.3|共3页
  • 作者单位

    Department of Electrical and Computer Engineering, University of California at San Diego, La Jolla, California 92093-0407;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 应用物理学;计量学;
  • 关键词

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