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Dynamics of self-assembled droplet etching

机译:自组装液滴蚀刻的动力学

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摘要

We study the self-assembled local droplet etching of nanoholes in AlGaAs surfaces with Ga droplets. The data establish an unexpected delay of both the hole drilling process as well as the removal of the liquid material after etching. Furthermore, coarsening by Ostwald ripening is found to reduce the droplet density before drilling. Basing on these findings, we propose a growth, coarsening, drilling, and removal mechanism for the droplet etching process.
机译:我们研究了具有Ga小滴的AlGaAs表面纳米孔的自组装局部小滴蚀刻。数据建立了钻孔过程以及蚀刻后液体材料去除的意外延迟。此外,发现通过奥斯特瓦尔德(Ostwald)熟化进行的粗化会降低钻孔前的液滴密度。基于这些发现,我们提出了一种用于微滴蚀刻工艺的生长,粗化,钻孔和去除机理。

著录项

  • 来源
    《Applied Physicsletters》 |2009年第17期|173110.1-173110.3|共3页
  • 作者

    Ch. Heyn; A. Stemmann; W. Hansen;

  • 作者单位

    Institut fuer Angewandte Physik und Zcntrum fuer Mikrostrukturforschung, Jungiusstrasse 11, D-20355 Hamburg, Germany;

    Institut fuer Angewandte Physik und Zcntrum fuer Mikrostrukturforschung, Jungiusstrasse 11, D-20355 Hamburg, Germany;

    Institut fuer Angewandte Physik und Zcntrum fuer Mikrostrukturforschung, Jungiusstrasse 11, D-20355 Hamburg, Germany;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-18 03:20:05

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