机译:n-GaN中电子浓度和迁移率的温度依赖性高达1020 K
Department of Electrical and Electronics Engineering, University of Fukui, 3-9-1 Bunkyo, Fukui 910-8507, Japan;
rnDepartment of Electrical and Electronics Engineering, University of Fukui, 3-9-1 Bunkyo, Fukui 910-8507, Japan;
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机译:n-GaN中电子浓度和迁移率的温度依赖性高达1020 K
机译:在高温和高温下,包括热声子效应,位错对n-GaN中小信号高频热电子迁移率的影响
机译:ALXGA1-XAS / GAAS选择性掺杂异质结构中准二维电子浓度和迁移率的温度依赖性研究
机译:利用单轴应变nMOSFET中有效变形势的电子迁移率对衬底掺杂浓度的依赖性
机译:温度传感器的β和SiC的电导率和迁移率与温度的关系
机译:低温a晶蓝宝石上水热生长ZnO薄膜的高电子迁移率和低载流子浓度
机译:n-GaN中电子浓度和迁移率的温度依赖性测量高达1020K
机译:La(2-x)m(x)CuO4和YBa2Cu3O(7-y)中高温超导的线性电子 - 空穴 - 电子对模型:2,超导转变温度对压力和孔浓度的依赖性