机译:通过氟和镧系元素掺杂对高κ电介质金属氧化物半导体叠层进行有效功函数调谐
Fraunhofer Institute for Integrated Systems and Device Technology, Schottkystrasse 10,91058 Erlangen, Germany;
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机译:通过氟和镧系元素掺杂对高κ电介质金属氧化物半导体叠层进行有效功函数调谐
机译:氟注入可有效控制p型金属氧化物半导体高k金属栅叠层中的功函数
机译:金属/高κ电介质堆栈中有效功函数不稳定性的建模
机译:Al
机译:纳米N沟道和P沟道金属氧化物半导体场效应晶体管的超薄氧化物和氮化物/氧化物堆叠的栅极电介质研究
机译:配体和金属共掺杂镧系元素-有机骨架中的双重发光:颜色调整和随温度变化的发光
机译:宽带隙高k Y2 O3作为钝化中间层,用于增强具有高k HfTiO栅极电介质的n-Ge金属氧化物半导体电容器的电性能和高场可靠性