机译:图案化Si(001)衬底上的SiGe异质外延膜中的位错工程
L-NESS and Dipartimento di Scienza del Materiali, Universita degli Studi di Milano-Bicocca,via R. Cozzi 53, I-20125 Milano, Italy;
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Institut für Halbleiter- und Festkorperphysik, Johannes Kepler Universitat, Altenberger Str. 69,A-4040 Linz, Austria;
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L-NESS and Dipartimento di Scienza del Materiali, Universita degli Studi di Milano-Bicocca,via R. Cozzi 53, I-20125 Milano, Italy;
Institut für Halbleiter- und Festkorperphysik, Johannes Kepler Universitat, Altenberger Str. 69,A-4040 Linz, Austria;
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机译:在Si(001)上的SiGe膜中通过基坑凹坑构图进行错配位错吸收
机译:高失配Ge / Si(001)薄膜中垂直位错的意外支配地位及其通过深衬底图案化的消除
机译:使用天线边缘型微波等离子体辅助化学气相沉积法在Ir(001)/ MgO(001)衬底上制备异质外延金刚石薄膜
机译:Diamond(001)衬底上立方氮化硼薄膜的异质外延生长及其n型掺杂
机译:使用构图应力场对SiGe薄膜中的成分工程进行建模和仿真。
机译:激发强度驱动图案化和平面Si(001)衬底上SiGe岛的PL位移:岛中富含Ge的点的证据
机译:在图案化的Si(001)衬底上InSb薄膜的异质外延生长