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Second harmonic generation probing of dopant type and density at the Si/SiO_2 interface

机译:Si / SiO_2界面上掺杂物类型和密度的二次谐波探测

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摘要

Time-dependent second-harmonic generation (TD-SHG) is shown to be a sensitive, noncontact probe of dopant type and concentration at Si/SiO_2 interfaces. TD-SHG signal magnitude increases for n-Si(111)/SiO_2, while for p-Si(lll)/SiO_2 TD-SHG is nonmonotonic. This behavior is interpreted as a consequence of SHG sensitivity to electric fields induced by interfacial charge transfer and trapping.
机译:时间相关的二次谐波产生(TD-SHG)被证明是一种敏感的非接触式探针,其掺杂类型和浓度均在Si / SiO_2界面上。对于n-Si(111)/ SiO_2,TD-SHG信号幅度增加,而对于p-Si(III)/ SiO_2,TD-SHG信号幅度非单调。这种行为被解释为SHG对界面电荷转移和俘获引起的电场敏感的结果。

著录项

  • 来源
    《Applied Physics Letters》 |2011年第4期|p.041905.1-041905.3|共3页
  • 作者单位

    Department of Chemistry, Temple University, Philadelphia, Pennsylvania 19122, USA;

    Department of Chemistry, Temple University, Philadelphia, Pennsylvania 19122, USA;

    Department of Chemistry, Temple University, Philadelphia, Pennsylvania 19122, USA;

    Department of Chemistry, Temple University, Philadelphia, Pennsylvania 19122, USA;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-18 03:17:43

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