机译:勘误表:“使用原子层沉积减少镍纳米线自组织阵列中的静磁相互作用”物理来吧98,112501(2011)]
Institut Neel, CNRS et University Joseph Fourier, BP 166, F-38042 Grenoble Cedex 9, France;
Institut Neel, CNRS et University Joseph Fourier, BP 166, F-38042 Grenoble Cedex 9, France;
Institut Neel, CNRS et University Joseph Fourier, BP 166, F-38042 Grenoble Cedex 9, France;
Institut Neel, CNRS et University Joseph Fourier, BP 166, F-38042 Grenoble Cedex 9, France;
机译:使用原子层沉积减少镍纳米线自组织阵列中的静磁相互作用
机译:勘误表:“在原子层沉积的Al_2O_3 / III-氮化物异质结处界面电荷的存在和起源” [Appl。物理来吧99,193504(2011)]
机译:勘误表:“通过X射线衍射分析自感应GaN纳米线中InxGa1-xN / GaN超晶格的生长”。物理来吧98,261907(2011)]
机译:通过原子层沉积制备的高性能核-壳纳米线阵列器件
机译:氮化镍膜的原子层沉积和直接液化化学气相沉积及其转化为硅化镍膜。
机译:勘误表:硅纳米线生化场效应晶体管中1 ∕ f噪声机制的温度依赖性。物理来吧97243501(2010)
机译:使用原子层沉积减少镍纳米线自组织阵列中的静磁相互作用
机译:垂直纳米线阵列的原子层沉积启用互连技术