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Surface morphology and electrical transport of rapid thermal annealed chromium-doped indium zinc oxides: The influence of zinc interstitials and out-diffusion

机译:快速热退火掺铬铟锌氧化物的表面形态和电迁移:锌间隙和向外扩散的影响

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摘要

We investigate the complex impedance (CI) spectra of chromium-doped indium zinc oxide (CIZO) films with different rapid thermal annealing (RTA) temperatures. The CI spectra drawn from the impedance contributions of Zn-O and In-O bondings in CIZO films were analyzed by two sets of parallel resistance and capacitance components in series. The result demonstrates that zinc interstitials controls electron concentration and transition of electrical transport from semiconducting to metallic. At higher RTA temperature, high-density zinc interstitial promotes Zn atom diffusion from the surface, modifying surface morphology.
机译:我们研究了具有不同快速热退火(RTA)温度的掺铬铟锌氧化物(CIZO)薄膜的复阻抗(CI)光谱。通过两组串联的并联电阻和电容分量分析了CIZO薄膜中Zn-O和In-O键的阻抗贡献所得出的CI光谱。结果表明锌间隙控制电子浓度和电传输从半导体到金属的过渡。在较高的RTA温度下,高密度锌间隙促进了Zn原子从表面扩散,从而改变了表面形态。

著录项

  • 来源
    《Applied Physics Letters》 |2013年第24期|242103.1-242103.5|共5页
  • 作者

    C. Y. Hsu;

  • 作者单位

    Physics Department, National Sun Yat-Sen University, Kaohsiung 804, Taiwan;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-18 03:16:47

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