机译:非极性氮化物气隙分布布拉格反射器微腔的制备及光学性能
Institute for Industrial Science, The University of Tokyo, 4-6-1, Komaba, Meguro-ku, Tokyo 153-8505, Japan;
Institute for Nano Quantum Information Electronics, The University of Tokyo, 4-6-1, Komaba, Meguro-ku, Tokyo 153-8505, Japan;
Institute for Industrial Science, The University of Tokyo, 4-6-1, Komaba, Meguro-ku, Tokyo 153-8505, Japan;
Institute for Industrial Science, The University of Tokyo, 4-6-1, Komaba, Meguro-ku, Tokyo 153-8505, Japan,Institute for Nano Quantum Information Electronics, The University of Tokyo, 4-6-1, Komaba, Meguro-ku, Tokyo 153-8505, Japan;
机译:非极性III族氮化物气隙分布布拉格反射器微腔的制备和光学性能
机译:气隙/Ⅲ族氮化物分布布拉格反射器在非极性GaN / AIGaN微腔中的强耦合
机译:具有气隙分布布拉格反射器的基于氮化镓的微腔发光二极管
机译:气隙/Al_(0.05)Ga_(0.95)N分布式布拉格反射镜在375 nm处的光泵浦垂直腔表面发射激光器
机译:基于砷化镓/气隙分布式布拉格反射器的垂直腔面发射激光器:从概念到工作装置。
机译:通过电化学孔隙化法制备非极性介孔GaN分布布拉格反射镜的晶圆级
机译:空气间隙/ III-氮化物分布式布拉格反射器GaN / AlGaN微张集中被困激子 - Polariton排放的室温观察