机译:硅,砷化镓和砷化铟不同晶体取向下量子阱表面载流子密度的比较
Advanced Logic Lab, Samsung Semiconductor R&D Center, 12100 Samsung Blvd., Austin, Texas 78754, USA;
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机译:(001)硅衬底上的线结构中高度有序的水平砷化铟镓/磷化铟多量子阱结构
机译:空间周期性激光辐射场激发的硅和砷化镓单晶表面纳米岛的自组织
机译:硅覆盖层对砷化镓表面的脱氧作用:界面态密度演化的研究
机译:通过双光子时间分辨的太赫兹光谱分谱光谱光谱法在硅和砷化镓中的低密度载流子迁移
机译:高载流子密度状态下砷化铟镓量子点的超快载流子动力学。
机译:硬金属中的钴和硫酸钴砷化镓磷化铟和五氧化二钒。
机译:量子阱表面载流子密度的比较 硅,砷化镓和铟的不同晶体取向 砷化物