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Repulsive interactions between dislocations and overgrown v-shaped defects in epitaxial GaN layers

机译:外延GaN层中位错与过长的v形缺陷之间的排斥相互作用

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摘要

The spatial distribution and the projected line directions of dislocations intersecting a cross-sectional (1010) cleavage plane of a GaN(0001) epitaxial layer is mapped using scanning tunneling microscopy. The data is correlated with the spatial positions of v-shaped defects. The dislocations are found to be bent away from the inclined semipolar facets of v-shaped defects, due to a strain-induced repulsive interaction. The dislocation distribution is characterized by agglomerations and intersecting bundles of dislocations with parallel projected line directions, stabilized by many body effects in the repulsive strain interactions.
机译:使用扫描隧道显微镜绘制与GaN(0001)外延层的横截面(1010)劈开面相交的位错的空间分布和投影线方向。数据与v形缺陷的空间位置相关。发现由于应变引起的排斥相互作用,使位错远离v形缺陷的倾斜的半极性小面弯曲。位错分布的特征是位错的聚集和相交束具有平行的投影线方向,并通过排斥应变相互作用中的许多体效应来稳定。

著录项

  • 来源
    《Applied Physics Letters》 |2013年第14期|142105.1-142105.4|共4页
  • 作者单位

    Peter Gruenberg Institut, Forschungszentrum Juelich GmbH, 52425 Juelich, Germany;

    Peter Gruenberg Institut, Forschungszentrum Juelich GmbH, 52425 Juelich, Germany;

    Institut fuer Festkoerperphysik, Technische Universitaet Berlin, Hardenbergstr. 36,10623 Berlin, Germany;

    Peter Gruenberg Institut, Forschungszentrum Juelich GmbH, 52425 Juelich, Germany;

    Peter Gruenberg Institut, Forschungszentrum Juelich GmbH, 52425 Juelich, Germany;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
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