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机译:外延GaN层中位错与过长的v形缺陷之间的排斥相互作用
Peter Gruenberg Institut, Forschungszentrum Juelich GmbH, 52425 Juelich, Germany;
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Institut fuer Festkoerperphysik, Technische Universitaet Berlin, Hardenbergstr. 36,10623 Berlin, Germany;
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机译:外延GaN层中过长的v形缺陷的弯曲
机译:外延GaN层中过长的v形缺陷的弯曲
机译:外延GaN层中过长的v形缺陷中深陷阱的证据
机译:外延横向生长的GaN层上基于GaN的激光二极管中的位错
机译:通过异质外延GaN薄膜中的缓冲层控制应力和缺陷
机译:接近无应变的GaN兼容缓冲层上GaN外延层中的超低穿线位错密度及其在异质外延LED中的应用
机译:减少外延gan层中的位错密度,从而增加了与缺陷相关的刻蚀坑的过度生长
机译:外侧外延生长GaN层的光学表征;杂志文章