机译:通过分子束外延在Si(111)上生长的拓扑绝缘体Bi_2Te_3薄膜中由于表面台阶而形成的畴
Peter Gruenberg Institute-9, Forschungszentrum Juelich, Juelich 52425, Germany,Juelich Aachen Research Alliance, Fundamentals of Future Information Technologies, Juelich 52425, Germany;
Peter Gruenberg Institute-9, Forschungszentrum Juelich, Juelich 52425, Germany,Juelich Aachen Research Alliance, Fundamentals of Future Information Technologies, Juelich 52425, Germany;
Peter Gruenberg Institute-5 and Ernst Ruska-Centre for Microscopy and Spectroscopy with Electrons, Forschungszentrum Juelich, Juelich 52425, Germany;
Peter Gruenberg Institute-9, Forschungszentrum Juelich, Juelich 52425, Germany,Juelich Aachen Research Alliance, Fundamentals of Future Information Technologies, Juelich 52425, Germany;
Peter Gruenberg Institute-9, Forschungszentrum Juelich, Juelich 52425, Germany,Juelich Aachen Research Alliance, Fundamentals of Future Information Technologies, Juelich 52425, Germany;
机译:通过分子束外延在Si(111)上生长的拓扑绝缘体Bi2Te3薄膜中由于表面台阶而形成的畴
机译:通过分子束外延在(111)BaF_2衬底上生长的Bi_2Te_3拓扑绝缘体薄膜的结构特性
机译:拓扑绝缘体的强大表面电子特性:分子束外延生长的Bi_2Te_3薄膜
机译:MBE-种植拓扑绝缘体BI_2TE_3薄膜的成核和生长动态(111)
机译:分子束外延在6个氢碳化硅衬底上生长的氧化镁纳米薄膜的工艺建模与化学计量分析
机译:控制Si(111)表面上分子束外延生长的In-Bi原子膜的极性
机译:由于拓扑绝缘子Bi $ _ {2} $ Te $ _ {3} $通过分子束外延在Si(111)上生长的薄膜中的表面台阶而导致的畴形成
机译:表面台阶对拓扑绝缘子分子束外延的影响