机译:HfO_2中的晶界组成和传导:从头算
IMEP-LAHC, Minatec-INPG, 3 rue Parvis Louis Neel, BP 257, 38016 Grenoble Cedex 1, France;
CEA, LETI, Minatec Campus, 17 rue des Martyrs, 38054 Grenoble Cedex 9, France;
Center for Semiconductor Devices, State University of Campinas, Campinas, SP, Brazil;
CEA, LETI, Minatec Campus, 17 rue des Martyrs, 38054 Grenoble Cedex 9, France;
CEA, LETI, Minatec Campus, 17 rue des Martyrs, 38054 Grenoble Cedex 9, France;
CEA, LETI, Minatec Campus, 17 rue des Martyrs, 38054 Grenoble Cedex 9, France;
CEA, LETI, Minatec Campus, 17 rue des Martyrs, 38054 Grenoble Cedex 9, France;
IMEP-LAHC, Minatec-INPG, 3 rue Parvis Louis Neel, BP 257, 38016 Grenoble Cedex 1, France;
Department of Electrical Engineering, Stanford University, Stanford, California 94305, USA;
机译:多晶HfO_2电介质晶界处HfO_2 / SiO_x介质堆叠的优先局部降解和击穿研究
机译:铁表面晶界附近单个碳和氧原子的化学吸附增强:从头算
机译:晶界是良性的,抑制单层黑色磷中的非抗体电子 - 空穴重组:时间域AB初始研究
机译:从头开始研究氧在具有Σ3晶界的铁表面的吸附
机译:清洁铝(111)表面上边界层润滑剂的吸附和分解途径以及铝/钢界面处的粘合剂金属转移的计算机建模:从头算研究
机译:Ni3Si中Σ5(210)晶界中张量弹性和化学键之间联系的从头算研究
机译:Σ5(210)σ5(210)晶界张力弹性特性与化学键与化学键之间的联系的AB初始研究
机译:ab Initio建模在材料科学中的应用:晶界凝聚和固态扩散