机译:金薄膜的尺寸效应:通过测量4 K下的霍尔效应来区分电子表面和电子晶粒边界散射
Departamento de Fisica, Universidad Tecnica Federico Santa Maria, Av. Espana 1680, Casilla 110-V, Valparaiso, Chile;
Departamento de Fisica, Facultad de Ciencias Fisicas y Matematicas, Universidad de Chile, Blanco Encalada 2008, Casilla 487-3, Santiago 8370449, Chile;
Bachillerato, Universidad de Chile, Las Palmeras 3425, Santiago 7800024, Chile;
Departamento de Fisica, Facultad de Ciencias Fisicas y Matematicas, Universidad de Chile, Blanco Encalada 2008, Casilla 487-3, Santiago 8370449, Chile;
Departamento de Fisica, Facultad de Ciencias Fisicas y Matematicas, Universidad de Chile, Blanco Encalada 2008, Casilla 487-3, Santiago 8370449, Chile;
Departamento de Fisica, Facultad de Ciencias Fisicas y Matematicas, Universidad de Chile, Blanco Encalada 2008, Casilla 487-3, Santiago 8370449, Chile;
机译:金薄膜的尺寸效应:通过测量4 K处的霍尔效应来区分电子表面和电子晶粒边界散射
机译:强磁场下的尺寸效应:电子-表面散射在高真空下沉积在云母基板上的金薄膜上引起的霍尔效应
机译:电子表面散射在高真空下沉积在云母基板上的金薄膜上的电子表面散射引起的电阻率,横向磁阻和霍尔电压
机译:基质温度效应磁控溅射的粘附和粒径溅射覆盖金纳娜薄膜在溴乙烯聚合物上的薄膜
机译:用X射线散射和荧光研究金纳米颗粒在聚合物超薄膜中的迁移率和组织
机译:高分子薄膜中高浓度原位合成金纳米粒子的生长动力学和光散射
机译:金纳米颗粒尺寸对薄膜非晶硅电池光散射的影响
机译:高电阻率薄膜中霍尔效应的测量技术