机译:金薄膜的尺寸效应:通过测量4 K处的霍尔效应来区分电子表面和电子晶粒边界散射
Departamento de Física, Universidad Técnica Federico Santa María, Av. España 1680, Casilla 110-V, Valparaíso, Chile;
Hall mobility; electrical resistivity; gold; grain boundary diffusion; grain size; metallic thin films; size effect; vacuum deposition; 6172Mm; 7215Gd; 7350Jt; 7350Mx; 7361At; 8115Kk;
机译:金薄膜的尺寸效应:通过测量4 K下的霍尔效应来区分电子表面和电子晶粒边界散射
机译:强磁场下的尺寸效应:电子-表面散射在高真空下沉积在云母基板上的金薄膜上引起的霍尔效应
机译:电子表面散射在高真空下沉积在云母基板上的金薄膜上的电子表面散射引起的电阻率,横向磁阻和霍尔电压
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