机译:控制在Si(111)上金属有机气相外延生长的GaP的极性以用于随后的Ⅲ-Ⅴ纳米线生长
Technische Universitaet Ilmenau, Institut fuer Physik, 98693 Ilmenau, Germany;
Technische Universitaet Ilmenau, Institut fuer Physik, 98693 Ilmenau, Germany,Helmholtz-Zentrum Berlin, Institute for Solar Fuels, 14109 Berlin, Germany;
Technische Universitaet Ilmenau, Institut fuer Physik, 98693 Ilmenau, Germany;
Technische Universitaet Ilmenau, Institut fuer Physik, 98693 Ilmenau, Germany;
Technische Universitaet Ilmenau, Institut fuer Physik, 98693 Ilmenau, Germany;
Technische Universitaet Ilmenau, Institut fuer Physik, 98693 Ilmenau, Germany,Helmholtz-Zentrum Berlin, Institute for Solar Fuels, 14109 Berlin, Germany;
Technische Universitaet Ilmenau, Institut fuer Physik, 98693 Ilmenau, Germany;
Center for Semiconductor Technology and Optoelectronics (ZHO), University of Duisburg-Essen, 47057 Duisburg, Germany;
Technische Universitaet Ilmenau, Institut fuer Physik, 98693 Ilmenau, Germany,Helmholtz-Zentrum Berlin, Institute for Solar Fuels, 14109 Berlin, Germany;
机译:GaP(111)B上InP纳米线的异质外延金属有机气相外延生长
机译:微波激发金属有机气相外延在GaAs(111)和GaP(111)衬底上生长InN膜
机译:通过金属有机气相外延控制Si表面的原子构型直接在Si(111)衬底上生长GaN
机译:金属有机气相外延法在碳面SiC上生长GaN和AlN和极性控制
机译:金属化学气相沉积种植的氮化镓外膜中的极性控制
机译:形态学控制的气相生长和一维栅极纳米线的表征和用于潜在可见光活性光催化剂的二维纳米片
机译:金属有机气相外延法在Si衬底上高温生长GaP