机译:直流磁控溅射沉积在非晶碳膜上的Sn掺杂In_2O_3薄膜生长早期的透射电镜观察
Graduate School of Science and Engineering, Aoyama Gakuin University, 5-10-1 Fuchinobe, Sagamihara, Kanagawa 229-8558, Japan;
Center for Instrumental Analysis, Aoyama Gakuin University, 5-10-1 Fuchinobe, Sagamihara, Kanagawa 229-8558, Japan;
Graduate School of Science and Engineering, Aoyama Gakuin University, 5-10-1 Fuchinobe, Sagamihara, Kanagawa 229-8558, Japan;
Graduate School of Science and Engineering, Aoyama Gakuin University, 5-10-1 Fuchinobe, Sagamihara, Kanagawa 229-8558, Japan;
机译:原子力显微镜和透射电镜观察Sn掺杂In_2O_3薄膜在非晶SiO_2表面上的早期生长
机译:d.c.沉积的退火非晶碳锗薄膜的拉曼光谱和扫描电子显微镜研究磁控溅射
机译:直流磁控溅射沉积非晶碳锗退火薄膜的拉曼光谱和扫描电子显微镜研究
机译:RAMAN,电子显微镜和电气传输研究X射线无定形ZN-IR-O薄膜通过反应性DC磁控溅射沉积
机译:溅射参数对RF磁控溅射沉积ITO膜的影响
机译:磁控溅射沉积非晶碳膜的基体温度相关的微观结构和电子诱导的二次电子发射特性
机译:射频磁控溅射和直流磁控溅射薄膜铬和铬铂涂层的透射电子显微镜研究