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机译:通过离子束辐射工程化单层MoS2晶体管中的化学活性缺陷并通过烷硫醇的蒸汽沉积对其进行修复
Univ Strasbourg, CNRS, ISIS UMR 7006, 8 Allee Gaspard Monge, F-67000 Strasbourg, France;
Univ Strasbourg, CNRS, ISIS UMR 7006, 8 Allee Gaspard Monge, F-67000 Strasbourg, France;
Univ Mons, Lab Chem Novel Mat, Pl Parc 20, B-7000 Mons, Belgium;
Univ Mons, Lab Chem Novel Mat, Pl Parc 20, B-7000 Mons, Belgium;
Univ Mons, Lab Chem Novel Mat, Pl Parc 20, B-7000 Mons, Belgium;
Univ Strasbourg, CNRS, ISIS UMR 7006, 8 Allee Gaspard Monge, F-67000 Strasbourg, France;
机译:大面积单层MoS2的化学气相沉积生长及相关背栅晶体管的制造
机译:基于化学气相沉积衍生的单层MoS2的高迁移率顶栅场效应晶体管和集成电路
机译:通过化学气相沉积制备的单层MoS2场效应晶体管的电性能
机译:通过化学气相沉积制备的连续单层MOS2的生长机理
机译:通过化学气相沉积合成单层MOS2
机译:熔盐辅助化学气相沉积工艺用于单层MOS2的替代掺杂有效改变电子结构和声子特性
机译:通过离子束照射和通过链烷醇的气相沉积,通过离子束照射和愈合来在单层MOS2转移器中进行化学活性缺陷