机译:两步离子注入和微波退火对硅锗中掺杂剂活化的影响
机译:高温注入和两步微波退火对锗晶体中磷的高掺杂活化
机译:微波退火,用于磷注入的MOSFET器件中掺杂剂激活的低热预算工艺
机译:两步注入和微波退火技术对SiGe中硼的高掺杂活化
机译:使用单模微波腔对陶瓷和陶瓷复合材料进行微波处理。
机译:钙钛矿杂化钙的快速微波退火工艺消除了高性能光伏的杂相
机译:用于先进热机应用的氮化硅部件微波处理的开发 - 具有高添加剂含量的氮化硅的微波退火。 CRaDa最终报告CRaDa编号ORNL90-0035