plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD); hexamethyldisiloxane (HMDSO); industrial-size plasma reactor; capacitively coupled radiofrequency (RF) discharge; ion density; real time deposition rate measurement; time-of-flight secondary ion mass spectrometry (ToF-SIMS);
机译:大型等离子反应器中类似二氧化硅薄涂层的沉积动力学
机译:低温下类似二氧化硅的薄膜的等离子体辅助化学气相沉积的优化
机译:微波等离子体沉积的机械坚固的类二氧化硅涂层,用于阻隔应用
机译:大气压辉光放电(APGD)在聚合物网上沉积二氧化硅样薄膜的应用
机译:在中等压力下在微波等离子体辅助化学气相沉积反应器中对氢基等离子体进行建模。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:在大等离子体反应器中沉积薄二氧化硅样涂层的动力学