III–V semiconductor; indium phosphide (InP); Al;
机译:原子层沉积的Al2O3自洁和(NH4)(2)S处理去除天然氧化物后TiO2 / Al2O3 / InP电容器的电气特性
机译:YB2O3 / GASB MOS电容器钝化电容漏电电流传导机理的界面优化和调制
机译:使用HCl和(NH4)2S表面钝化的高迁移率锗p-MOSFET
机译:P2S5 /(NH4)2S和(NH4)2Sx硫化技术对GaAs表面钝化的研究
机译:SiGe(001)和(110)表面的清洁,钝化和官能化用于ALD成核的表面
机译:ALD Al2O3背面钝化Al2O3 PERC电池性能以及Al2O3 PERC电池效率损失机制的数据
机译:经过优化(NH4)(2)S处理的n型和p型Au / Ni / Al2O3 / In0.53Ga0.47As / InP电容器的少数载流子响应分析