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Isothermal close space sublimation for II-VI semiconductor filling of porous matrices

机译:等温近空间升华用于II-VI半导体填充多孔基质

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摘要

Isothermal close space sublimation, a simple and low-cost physical vapour transport technique, was used to infiltrate ZnTe and CdSe semiconductors in porous silicon. The structure of the embedded materials was determined by X-ray diffraction analysis while Rutherford backscattering spectra allowed determining the composition profiles of the samples. In both cases, a constant composition of the II-VI semiconductors throughout the porous layer down to the substrate was found. Resonance Raman scattering of the ZnTe samples indicates that this semiconductor grows in nanostructured form inside the pores. Results presented in this paper suggest that isothermal close space sublimation is a promising technique for the conformal growth of II-VI semiconductors in porous silicon.
机译:等温近空间升华是一种简单且低成本的物理蒸气传输技术,用于在多孔硅中渗透ZnTe和CdSe半导体。包埋材料的结构通过X射线衍射分析确定,而卢瑟福反向散射光谱可以确定样品的成分分布。在这两种情况下,都发现整个多孔层一直到基板的II-VI半导体成分恒定。 ZnTe样品的共振拉曼散射表明该半导体以纳米结构形式在孔内生长。本文提出的结果表明,等温近空间升华是一种有希望的技术,用于在多孔硅中保形生长II-VI半导体。

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