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Uniform-Sized Indium Quantum Dots Grown on the Surface of an InGaN Epitaxial Layer by a Two-Step Cooling Process

机译:通过两步冷却工艺在InGaN外延层表面上生长的均匀尺寸的铟量子点

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摘要

A new method to grow Indium quantum dots (In QDs) on the surface of an epitaxial InGaN layer by MOCVD is proposed. Uniform-sized In quantum dots have been found to form on the surface of an InGaN layer when a two-step cooling process is taken. Through analyzing, we found that the formation of In QDs on the surface is due to the reaction between the surface In-rich layer and the carrier gas H2 at the lower temperature period in the two-step cooling process. At the same time, as the density of In QDs is closely dependent on the surface In-rich layer, this provides us a way to study the surface property of the InGaN layer directly.
机译:提出了一种通过MOCVD在外延InGaN层表面生长铟量子点(In QDs)的新方法。当采取两步冷却工艺时,发现在InGaN层的表面上会形成均匀尺寸的In量子点。通过分析发现,在两步冷却过程中,表面上富In层与载气H2在较低温度下的反应是在表面形成In QD的原因。同时,由于In QD的密度紧密依赖于表面富In层,这为我们提供了直接研究InGaN层表面特性的方法。

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