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Sculpting the band gap: a computational approach

机译:雕刻带隙:一种计算方法

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摘要

Materials with optimized band gap are needed in many specialized applications. In this work, we demonstrate that Hellmann-Feynman forces associated with the gap states can be used to find atomic coordinates that yield desired electronic density of states. Using tight-binding models, we show that this approach may be used to arrive at electronically designed models of amorphous silicon and carbon. We provide a simple recipe to include a priori electronic information in the formation of computer models of materials, and prove that this information may have profound structural consequences. The models are validated with plane-wave density functional calculations.
机译:在许多专业应用中,需要带隙优化的材料。在这项工作中,我们证明与间隙状态相关的Hellmann-Feynman力可用于找到产生所需态电子密度的原子坐标。使用紧密绑定模型,我们表明该方法可用于得出非晶硅和碳的电子设计模型。我们提供了一个简单的方法,可以在材料计算机模型的形成中包含先验电子信息,并证明该信息可能会产生深远的结构性后果。通过平面波密度函数计算验证了该模型。

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