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Quantum engineering at the silicon surface using dangling bonds

机译:使用悬空键在硅表面进行量子工程

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摘要

Individual atoms and ions are now routinely manipulated using scanning tunnelling microscopes or electromagnetic traps for the creation and control of artificial quantum states. For applications such as quantum information processing, the ability to introduce multiple atomic-scale defects deterministically in a semiconductor is highly desirable. Here we use a scanning tunnelling microscope to fabricate interacting chains of dangling bond defects on the hydrogen-passivated silicon (001) surface. We image both the ground-state and the excited-state probability distributions of the resulting artificial molecular orbitals, using the scanning tunnelling microscope tip bias and tip-sample separation as gates to control which states contribute to the image. Our results demonstrate that atomically precise quantum states can be fabricated on silicon, and suggest a general model of quantum-state fabrication using other chemically passivated semiconductor surfaces where single-atom depassivation can be achieved using scanning tunnelling microscopy.
机译:现在,通常使用扫描隧道显微镜或电磁阱对单个原子和离子进行常规操作,以创建和控制人工量子态。对于诸如量子信息处理的应用,非常需要能够确定性地在半导体中引入多个原子级缺陷的能力。在这里,我们使用扫描隧道显微镜在氢钝化的硅(001)表面上制造悬空键缺陷的相互作用链。我们使用扫描隧道显微镜的尖端偏置和尖端样品分离作为门来控制所产生的人工分子轨道的基态和激发态概率分布图像,以控制对图像有贡献的状态。我们的结果表明,可以在硅上制造原子精确的量子态,并提出了使用其他化学钝化半导体表面制造量子态的通用模型,其中可以使用扫描隧道显微镜来实现单原子去钝化。

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