机译:用于制造具有超高纵横比的自组织软微蜂窝结构的粘弹性光刻技术
机译:使用SU-8的超音速开发通过UV光刻技术产生超高纵横比的微结构
机译:使用深X射线光刻技术制造具有高深宽比的微结构的关键问题
机译:使用透明角沉积制造的超高纵横比纳米结构的优化
机译:通过软光刻制造的基于介电电泳的微流体装置。
机译:使用纳米球刻蚀,软刻蚀和等离子刻蚀制造的等离子纳米结构
机译:超高数值孔径下的高纵横比光刻成像:具有共振反射器下层的E逝干涉光刻
机译:用软X射线光刻技术制备高纵横比区域板的研究进展