atomic layer deposition metal oxides thin films;
机译:ZrO2 / Fe2O3薄膜的原子层沉积及其性能
机译:在ZrO2薄膜的原子层沉积中通过N2O-等离子体的表面改性形成几乎完整的原子单层。
机译:高k电介质原子层沉积Ge掺杂ZrO2薄膜的结构和电性能
机译:通过射频溅射,原子层沉积和化学浴沉积沉积的Zn(O,S)薄膜的光学性质
机译:薄膜应用的分子工程:区域选择性原子层沉积(ALD)和分子原子层沉积(MALD)。
机译:四(二甲基氨基)锆和臭氧原子层沉积生长的高k ZrO2薄膜的结构和介电性能
机译:ZrO2 / Fe2O3薄膜的原子层沉积与性能