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Photoredox-mediated Minisci C–H alkylation of N-heteroarenes using boronic acids and hypervalent iodine

机译:使用硼酸和高价碘的光氧化还原介导的N-杂芳烃的Minisci C–H烷基化

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摘要

A photoredox-mediated Minisci C–H alkylation reaction of N-heteroarenes with alkyl boronic acids is reported. A broad range of primary and secondary alkyl groups can be efficiently incorporated into various N-heteroarenes using [Ru(bpy)3]Cl2 as photocatalyst and acetoxybenziodoxole as oxidant under mild conditions. The reaction exhibits excellent substrate scope and functional group tolerance, and offers a broadly applicable method for late-stage functionalization of complex substrates. Mechanistic experiments and computational studies suggest that an intramolecularly stabilized ortho-iodobenzoyloxy radical intermediate might play a key role in this reaction system.
机译:据报道,光-氧化还原介导的N-杂芳烃与烷基硼酸的Minisci C–H烷基化反应。在温和的条件下,使用[Ru(bpy)3] Cl2作为光催化剂,并用乙酰氧基苯并d唑作为氧化剂,可以将各种伯烷基和仲烷基有效地掺入各种N-杂芳烃中。该反应表现出优异的底物范围和官能团耐受性,并为复杂底物的后期功能化提供了广泛适用的方法。机理实验和计算研究表明,分子内稳定的邻碘苯甲酰氧基自由基中间体可能在该反应系统中起关键作用。

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