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魏徐兵; 尚伦霖; 鲁志斌; 张广安;
中国科学院兰州化学物理研究所 兰州 730000;
中国科学院大学 北京 100049;
等离子体增强化学气相沉积; 超厚类金刚石碳膜; 快速沉积; 耐磨损; 耐腐蚀;
机译:等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术沉积的类金刚石碳(DLC)膜的纳米力学和电化学性质
机译:等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术沉积类金刚石碳(DLC)薄膜的纳米力学和电化学性能
机译:优化的等离子体增强化学气相沉积(PECVD)工艺,用于在锗基板上沉积双层类金刚石碳(DLC)
机译:RF ICP PECVD方法沉积的类金刚石碳(DLC)膜的表征
机译:用离子辅助PECVD沉积和表征类金刚石碳,二氧化硅及其纳米复合薄膜。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:使用(DC-PECVD)沉积的类金刚石碳薄膜的UV-Vis表征
机译:用于研究仪器的pECVD(等离子体增强化学气相沉积)金刚石薄膜
机译:使用PECVD和类金刚石前体在空心部件的内表面上生产类金刚石碳涂层的方法
机译:沉积碳基薄膜的类金刚石导电电子发射的方法
机译:沉积类金刚石,导电和电子发射碳基薄膜的方法
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