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黄英; 张以忱;
东北大学,机械工程与自动化学院,辽宁沈阳,110004;
磁控溅射; 圆柱靶; 磁场;
机译:溅射功率对带有旋转圆柱靶的脉冲直流磁控溅射沉积的ZnO:Ga透明导电氧化物膜性能的影响
机译:衬底温度对带有旋转圆柱靶的脉冲直流磁控溅射沉积的光伏电池用掺杂Ga的ZnO薄膜性能的影响
机译:圆柱形圆筒靶旋转直流磁控溅射制备Ga掺杂ZnO薄膜的薄膜太阳能电池应用
机译:具有可控靶腐蚀模式的矩形直流磁控溅射系统设计
机译:矩形圆柱体旋转中的非线性疾病建模
机译:电子的轴向均匀磁场调制激励狭槽在矩形和圆柱形腔中的顺磁共振裁切
机译:旋转永磁体磁场中圆柱和矩形横截面的非磁性工件的加热
机译:钝化旋转带的雕刻压力:双面不均匀支撑的矩形金属带压痕压力的理论研究
机译:在真空室中操作用于磁控溅射的大型阴极,其中阴极包括靶,包括通过装置产生磁场,并将靶分为两个部分靶
机译:控制磁控溅射装置的装置和方式无效,该磁控溅射装置对暴露于单独放电的靶具有单独的磁场关闭
机译:具有分布磁场的磁控溅射-靶-靶组合
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