电感耦合等离子体发射光谱法检测铸造Al-Si-Cu系合金中硅铜镧铈钪

摘要

cqvip:采用两种比例的盐酸、硝酸、氢氟酸溶解样品,采用基体匹配法配制标准溶液系列以消除基体的影响,采用轴向观测方式提高了稀土元素的灵敏度,选择Si 185.005 nm、Cu 327.395 nm、La 408.671 nm、Ce 399.924 nm、Sc361.383 nm为分析线,使用电感耦合等离子体发射光谱法(ICP-OES)测定铸造Al-Si-Cu系合金中的硅铜镧铈钪。Si的质量分数在0.10%~15%范围内,Cu的质量分数在0.05%~8.0%范围内,La、Ce、Sc的质量分数在0.0005%~0.50%范围内,各元素质量分数与发射强度呈线性,相关系数>0.9997;检出限范围是0.00001%~0.0036%;测定结果的相对标准偏差<2.0%;加标回收率为92.5%~103.0%。方法简单、快速,测试结果令人满意。