首页> 中文期刊> 《科技与生活》 >美开发出热蘸笔纳米光刻技术

美开发出热蘸笔纳米光刻技术

         

摘要

据美国物理学家组织网11月7日报道,美国科学家首次厘清了温度在蘸笔纳米光刻技术中的作用,据此研制出的热蘸笔纳米光刻技术能在物质表面构造大小为20纳米的结构。借助这一技术,科学家们能廉价地在多种材料表面构造和种植出纳米结构,用以制造电路和化学传感器,或者研究药物如何依附于蛋白质和病毒上。

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号