高弓足和正常足在赤足行走过程中的力学特征分析

摘要

研究目的:观察高弓足和正常足在赤足行走过程中的运动学和动力学参数变化,分析高弓足易损伤的原因,为高弓足的康复治疗提供实验依据.研究方法:选取9名高弓足受试者为实验组,10名正常足受试者为对照组.利用Vicon-MX红外摄像系统进行动作捕捉,采集受试者常速行走时髋、膝、踝三大关节的运动学参数,同时利用KISTLER三维测力台采集行走过程中的足-地接触力.研究结果:在行走过程中,高弓足者髋关节在足趾离地时的外展角度小于正常足(P＜0.05);在垂直方向上的第二峰值地面反作用力(GRF)两组间差异存在统计学意义(P＜0.05),垂直方向的第一、第二峰值GRF和向后方向上的峰值GRF出现的时间均早于正常足(P＜0.05).结论:高弓足与正常足行走时所表现出的差异性可能是造成高弓足易损伤的原因,也反映了它们控制机制的不同.