阿达玛光谱仪的入射狭缝选择方法研究

摘要

为了确定光谱仪的入射多狭缝结构设计的可靠依据,研究了4种阿达玛S型狭缝阵列发生衍射后的光强分布.采用MEMS加工技术制作出最小狭缝单元为6 μm×6 μm的一体式微硅片阿达玛狭缝阵列,对3种S7型狭缝和一种S15型狭缝进行比较.首先利用阿达玛矩阵构造狭缝阵列的孔径函数,得到了衍射后的光强分布函数;然后运用Matlab软件对光强分布函数仿真,获得了符种狭缝衍射后的光强分布图及光通镀对比.搭建了试验装置进行验证,试验表明实际衍射光强分布及光通量间的比值都与仿真结果相符.最后分析了狭缝结构参数对光强分布的影响,总结了S型狭缝阵列衍射规律.所提出的衍射光强分布方法,为光谱仪中入射狭缝的选择与设计提供了理论依据,为实际应用提供了有价值的参考.