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武一;
清华大学生物科学与技术系;
光化学蚀刻; 光密度; 均匀区; 自由酸度; 集成电路;
机译:实验线性异方差系统中的真实检测限。第1部分
机译:实验线性异方差系统中的真实检测限。第2部分
机译:金属辅助光化学蚀刻与光电化学蚀刻相结合对4H SiC基底进行定制化孔隙化
机译:使用纳米化工艺提高太阳能电池的效率(光化学蚀刻)
机译:使用激光辅助剥离和无电极光化学蚀刻增强基于氮化镓的LED的光提取。
机译:基础健康区持续关注的一些参数及频繁服务问题研究
机译:真实/弹性和真实自蚀刻/弹性根管充填系统微漏失的体外比较
机译:光化学蚀刻的选择性抑制:用于预蚀刻工艺选择的拉曼光谱
机译:确定水声横越试验线测井时船舶真实速度的方法
机译:使用光化学增强蚀刻剂的各向异性蚀刻系统和方法
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