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一种测量光耦内部结构的方法

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本文根据光耦的原理,并结合X光下的透视图,理论分析光耦内部电气间隙和爬电距离、绝缘穿透距离的可能存在路径,进而实验中利用3只样品即可快速找到最短路径,此方法可为光耦的产品认证及质量筛选提供了有用的参考.

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来源
《科技视界》|2016年第1期|114-115|共2页
作者
周汝派;
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作者单位

工业和信息化部电子第五研究所,广东广州510610;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类
关键词
光耦; 认证; 绝缘穿透距离; 内部结构;
入库时间 2023-07-24 16:18:20

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