首页> 中文期刊>科技和产业 >基于专利分析的极紫外光刻现状研究

基于专利分析的极紫外光刻现状研究

开具论文收录证明 >>

期刊封面封底目录下载 >>

页面导航

摘要
著录项
相似文献
相关主题

摘要

基于极紫外光刻技术相关领域的全球和中国专利数据,从专利申请数量、布局情况、主要申请人等多个方面进行综合性分析,以期对业内机构进行研发工作和政府产业布局有所帮助.

著录项

来源
《科技和产业》|2017年第11期|62-66|共5页
作者
周婧博;
展开▼
作者单位

天津市科学技术信息研究所 ,天津300074;

展开▼
原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类专利研究;
关键词
极紫外光刻; 专利分析; IC行业;

相似文献

中文文献
外文文献
专利

1. 极紫外光源:极紫外光刻技术的"源头" [J] . 卞志昕 . 中国科技信息 . 2006,第010期
2. 下一代光刻候选技术:极紫外光刻 [J] . 黄俊峰 . 光机电信息 . 2001,第009期
3. 卟啉及BODIPY衍生物设计合成及光物理性质研究基于分子玻璃主体材料的极紫外(EUV)光刻胶研发 [J] . 郝青山 . 影像科学与光化学 . 2014,第005期
4. 基于脉冲CO2激光锡等离子体光刻光源的极紫外辐射光谱特性研究 [J] . 吴涛 ,王新兵 ,王少义 . 光谱学与光谱分析 . 2012,第007期
5. 极紫外光刻掩模缺陷暗场检测系统优化设计 [J] . 刘馨泽 ,匡尚奇 ,刁金玉 . 应用物理 . 2021,第003期
6. 下一代光刻技术—极紫外光刻(EUV) [C] . 刘业异 ,姚汉民 ,胡松 . 第十一届全国电子束、离子束、光子束学术年会 . 2001
7. 极紫外光刻掩模热变形及其对光刻性能的影响 [A] . 周鹏飞 . 2006

获取原文

客服邮箱：kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备：11010802029741号 ICP备案号：京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有

客服微信
服务号