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孙洪志;
无;
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机译:Si添加量和沉积条件对真空电弧沉积制备(Zr-Ti-Cr-Nb-Si)N涂层结构和性能的影响
机译:高温下带过滤阴极真空电弧沉积的ta-C涂层的摩擦学性能和机理
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机译:真空电弧沉积和高频放电沉积获得的nc-TiN涂层的结构和物理力学性能
机译:纳米复合摩擦涂层生长用真空电弧等离子体发生器的表征与优化
机译:装饰性涂层和耐磨涂层的真空电弧等离子体沉积方法和装置
机译:用于真空电弧沉积的蒸发源设备和真空电弧气相沉积设备
机译:真空电弧沉积系统,真空电弧沉积方法和磁记录介质
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