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高阶ELIC制程管制重点和工具系统研究

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摘要

高阶ELIC越来越多的应用在高端手机、平板电脑等消费电子产品中.文章主要研究100 μm盲孔ELIC产品的制作,涉及关键工序控制方法和工具系统的处理,以使微盲孔的整体对准度偏差在±50μm,同时对HDI制作过程的品质管制工具进行讨论.

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来源
《印制电路信息》 |2016年第12期|39-43,58|共6页
作者
周定忠; 李清春;
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作者单位

胜宏科技(惠州)股份有限公司,广东惠州516211;

胜宏科技(惠州)股份有限公司,广东惠州516211;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类印刷电路 ;
关键词
HDI ; ELIC; 制程管制; 工具系统 ; 对准度偏差;

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